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科民ALD實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積

科民ALD實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積

  • 分類:公司新聞
  • 發(fā)布時(shí)間:2019-01-10
  • 訪問量:0

【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前果。科民電子利用PE-ALD設(shè)備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴(kuò)散等難點(diǎn),成功實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

科民ALD實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積

【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前果。科民電子利用PE-ALD設(shè)備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴(kuò)散等難點(diǎn),成功實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

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科民ALD實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積

  金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前果??泼耠娮永肞E-ALD設(shè)備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴(kuò)散等難點(diǎn),成功實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir)鍍膜均勻,無空隙,完全滿足高端用戶的需求。

 

SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設(shè)備

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